【物品：低端光刻機】
【經驗值：100000/100000（可升級）】
【優化點：250.8】
第二天，蔡晉睡醒之后，來到小工廠，查看光刻機的時候，數據已經發生了變化。
“系統，升級！”蔡晉毫不猶豫地選擇了升級。
唰！
一道微光閃爍！
頓時，這臺光刻機就發生了變化。
至少看起來,順眼了很多。
相關的信息，蔡晉也就了解了。
【物品：中低端光刻機】
【經驗值：0/500000】
【優化點：250.8】
這臺光刻機，一下子從可以生產300nm，一下子提升到了150nm芯片水平。
不過，150nm芯片，依舊屬于低端芯片，根本沒有任何值得喜悅的。
蔡晉繼續讓光刻機運行著。
隨后，他開始組裝生產光刻膠的設備。
芯片發展有一個叫做摩爾定律的說法,每18~24個月，性能就會翻一倍。
而保持摩爾定律【生命力】的基石之一就是光刻技術，每18~24個月，利用光刻工藝在集成電路板上所能形成最小圖案的特征尺寸將縮小30%。
光刻膠，正是光刻工藝的核心材料，它可以與光線發生反應，讓芯片材料上出現所需的精密電路圖案。
光刻膠的質量和性能，會直接影響到集成電路制造過程中的優良率。
一句話概括就是，光刻出的電路圖案越精密，就代表著芯片性能越好。
而中國在半導體光刻膠方面，簡直是慘不忍睹，國產市場占有率僅僅1%！
中國每年光刻膠的產量，已經達到了驚人的七萬噸。
但這些產量只不過是一些初級產品罷了。
至于中高端產品，全部需要從境外購買，技術完全被境外封鎖。
一種年使用量超過十萬噸的重要耗材，居然全靠進口，說起來何等心酸。
想想，目前中國曝光機和光刻機數量龐大,就算遭到對手的打擊，一時半刻沒辦法進口這兩種機臺，國內相關行業也還撐得住。
但是光刻膠不一樣，那是每天都要大量消耗的耗材，一旦被斷供，整個行業就會沒有耗材可用。
投資上千億建起來的生產線，一旦光刻膠被別人卡脖子，就必須停產。
想想有多可怕！
而統治這個行業的，是美國陶氏化學，杜邦，亨斯邁，霓虹jsr，信越，東京應化學，富士，住友，tok，三菱化學，旭化成，日立化成,新日鐵化學,太陽油墨，再加上韓國東進化學，lg化學，意大利莫頓等等。
那種被卡脖子的可能性，不是沒有，相反有著很大的可能性。
最鮮明的例子，就是韓國。
自從2019年雙方產生巨大矛盾，日本經濟省宣布將對出口韓國的半導體材料加強審查與管控，其中包括氟聚酰亞胺、光刻膠和高純度氟化氫，這一招直接干趴下韓國的半導體產業，只能乖乖認慫。
而這一幕，在未來是有可能出現在中國身上的。
沒有高端芯片用，忍忍就是，用性能差一些芯片代替。可是如果沒有光刻膠的話，那連中低端芯片都會出現問題，到時候連中低端芯片都沒有。
所以雖然光刻膠全球市場也就不到百億美元，但是蔡晉卻要解決它。
解決了光刻機和光刻膠，那么中國半導體也就基本上解決了面臨的困境。
而且蔡晉已經決定了，直接把光刻機和光刻膠做成白菜價，搞死那些王八蛋。
不久前，ASML高管嘲諷中國：即使給你們圖紙，你們也造不出光刻機！
想想蔡晉心中就來去。
今日你高高在上，他日讓你破產沮喪哭嚎！
......
連續幾天。
蔡晉都將時間和精力放在光刻機、光刻膠上。
在昨天的時候，經過兩次升級，已經掌握了光刻膠生產技術，可以生產出各個型號的光刻膠。
半導體光刻膠、PCB光刻膠、LCD光刻膠和其他光刻膠，全部都攻克。
而今天，光刻機也差不多可以升級了。
將手放在光刻機上。
【物品：中低端光刻機】
【經驗值：500000/500000（可升級）】
【優化點：260】
“升級！”蔡晉毫不猶豫地選擇了升級。
唰！
一道微光閃爍。
頓時這臺光刻機就發生了明顯的變化，連外觀都在變化。
【物品：中端光刻機】
【經驗值：0/1000000】
【優化點：260】
與此同時，蔡晉對于這臺中端光刻機，也有了了解。
激光器、光束矯正器、能量控制器、光束形狀設置、遮光器、能量探測器、掩膜版.....全部都達到了全國最前沿的技術水平。
另外，掩膜臺的運動控制精度達到納米級，物鏡、量臺、曝光臺、內部封閉框架、減振器等物，也都是目前國內最先進的產品。
而光刻機的光源，也不再是之前的深紫外光，而是成了的軟X射線，也就是極紫外光。
最重要的是，它直接實現了，60nm芯片的生產制造！
而要知道，整個中國能做60nm芯片的企業，不超過三家，而且全是在2018年下半年才剛剛突破的技術，還是在實驗室里！
現在，頂多算是小規模適量產。
可是如今，他卻擁有了一臺可以量產60nm芯片的光刻機。
這么一臺光刻機，可以造上數百片12寸的圓晶！
可以說，這是一個突破，了不起的突破，如果把這里發生的事情，宣布出去，足以震驚整個中國，乃至于京城都要被驚動！
畢竟中國在半導體行業，被壓了太多年了！
從上個世紀以來，就一直跟在西方國家的屁股后面跑，說是向人家乞討技術也不為過。
中國太想在半導體領域實現逆襲，讓半導體領域不再被卡脖子。
不過，這還不是蔡晉的目標！
如果止步于此，頂多算是勉強夠用而已，還談不上先進！
他要搞出，比ASML的High-NAEUA光刻機更先進的頂端光刻機。
High-NAEUA光刻機的最小工業節點到了22nm~7nm，而他的目標，是22nm~1nm！
然后，將各種型號的光刻機，都賣出白菜價，搞死這些高高在上的巨頭們！
反正他搞出的光刻機，再怎么樣，也會比這些巨頭生產光刻機要便宜得多！
而且，他也不靠光刻機、光刻膠賺錢吃飯，他真正賺錢的，是仿生機器人，是全固態鋰電池！
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